PI Bake Furnace

반도체 제조 공정의 Wafer를 종형저항 가열식 Heater의 복사열을 이용, 가열하여 Wafer제조 공정을 수행하는 장비

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Autoclave(가압Cure)

반도체용 공정설비로 멀티 Stack, Flip Chip등 제작시 Feeler를 충진한 자재를 가압 및 Cure하여 Void제거 및 경화를 수행

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E-FURNACE

반도체 제조공정의 Wafer를 종형저항 가열식 Heater의 복사열을 이용, 가열하여 Wafer제조공정을 수행하는 장비

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SSD Tester Chamber

반도체용 Device를 Chamber내에서 Test Recipe에 따라 저온과 고온의 극한 환경을 구현하여 Device의 신뢰성을 검증하는 설비

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Hot&Cold Test Chamber

Device완성 후 Chamber내에서 Test Recipe에 따라 저온과 고온의 극한 환경을 구현하여 Device의 신뢰성을 검증하는 장비

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O3 Generator

반도체 ALD장치에 사용되는 Ozone발생장치로 산화막 형성을 위해 고농고 Ozone을 공급하기 위한 장비

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UFS Aging Chamber

USB에 대해 완성 후 Chamber내에서 Test Recipe에 따라 저온과 고온의 극한환경을 구현하여 Device의 신뢰성을 검증하는 장비

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TSV공정용 FURNACE

TSV 공정용 저온 특화공정 Process Furnace

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Chiller(Single&Dual)

Probe Station Chuk의 온도를 초 저온으로 제어햐여 Wafer Test를 신속하고 정확하게 제어하는 장비

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Test Burn In Board

Burn in System(MBT,TDBI,AZHR System)에 결합되어 사용하며 Device에 열적,전기적 stress를 동시에 가하여 초기불량을 제거하는 신뢰성 Test Board

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Autoclave (TV)

OLED공정상 압력을 가하여 Filler Or Film의 기포를 제거하는 설비(대형, TV Panel대응용)

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FPD Furnace
(Mica Heater Type)

LCD & Amoled 대 면적 GLASS열처리 설비

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VDO

고방사율 적외선 히터를 이용, Panel의 유기막內 수분을 진공 건조 시키는 장치

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VCD

Photo Resist Coating후 유기용제를 제거하기 위한 Vacuum Chamer

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RTP

LED GaN 상의 저 저항 고 반사율의 금속 전극 특성을 위한 균일 열처리공정 장비

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IR Oven

LCD,AMOLED용 공정설비로 적외선 (IR)을 이용하여 PI Cure, 소성, 건조 공정에 적용되는 설비

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Zener Diode

정전기 등으로부터 LED소자를 보호하여 제품 신뢰성을 높이기위한 전자부품

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TCU
(Temperature Control Unit)

OLED/LCD 제조공정상 전 공정단계로 노광설비 투입전 불규칙한 기판의 온도를 일정하게 제어하는 설비

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FPD Furnace
(Halogen Tungsten Lamp Type)

300℃~500℃의 넓은 온도 대역에 사용하는 AMOLED용 대면적 Glass열처리설비

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Heating Jacket

Vaccum Line내부에 발생된 응축성 Powder를 Heating jacket을 이용하여 가열 함 으로서 배관내 Powder가 배관내에 쌓이는 것을 방지

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Auto Clean Hood

Main Equipment Process Chamber의 Cleaning작업 중 발생하는 유독가스를 수집,배기 Duct로 배출하여 Fab내에 환경오염을 방지하는 장치

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